真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。假如真空泵鍍層的目地是更改原料表層的物理學和工藝性能，該技術性是真空泵金屬表層解決技術性的重要構成部分。現就其幾個主要應用方面做一簡單介紹。

在電子光學層面,用不一樣化學物質層或層鍍層的光學鏡片或方解石表層,可變成高反射或者非反射膜(即反反射膜)或一切需要的反射或透射原材料占比,或能用來消化吸收一些光波長,并傳送另一光波長的過濾器。高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。透水性膜用以拍攝和各種各樣激光發生器的起動，直至在建大中型鍍層夾層玻璃，是十分必須的。增透膜則大量用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（CCD）也都甬道各種薄膜。

在顯示信息一部分，選用真空電鍍法制取了平面圖顯示儀表的紀錄頭、密度高的視頻帶和全透明導電膜、攝像管的光導膜和顯示管顯示屏的鋁襯。在元件方面，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造鍍膜電容器，蒸發硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。