真空鍍膜技術(shù)是氣相物理沉積的方法之一，也叫真空電鍍。是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱鍍膜材料使之升華，蒸發(fā)粒子流直接射向基體，在基體表面沉積形成固體薄膜。青島真空鍍膜加工的應(yīng)用廣泛，如真空鍍鋁，在塑料等基體上進(jìn)行真空鍍，再經(jīng)過(guò)不同顏色的染色處理，可以應(yīng)用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產(chǎn)品制造中，裝飾效果十分出色。

真空鍍膜產(chǎn)品其膜面不僅亮度高，質(zhì)感細(xì)膩逼真，同時(shí)制作成本較低，有利于環(huán)境保護(hù)，較少受到基材材質(zhì)限制的優(yōu)點(diǎn)，被越來(lái)越多的應(yīng)用在化妝品外殼的表面處理。青島真空鍍膜加工過(guò)程簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。

但在實(shí)際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中，自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持，這是因?yàn)樵谶@種條件下沒有足夠的離化碰撞。因此青島真空鍍膜加工在低于1.3～2.7Pa壓強(qiáng)下運(yùn)行的濺射系統(tǒng)提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來(lái)提供，而不是靠陰極發(fā)射出來(lái)的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場(chǎng)的方式提高已有電子的離化效率。