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技術創新,質量質上,用戶至上真空鍍膜主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。
光學鍍膜 無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片,在日常的使用中,由于與灰塵或砂礫(氧化硅)的摩擦都會造成鏡片磨損,在鏡片表面產生劃痕。與玻璃片相比, 有機材料制成的硬性度比較低,更易產生劃痕。通過顯微鏡,我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種,一是由于砂礫產生的劃痕,淺而細小,戴鏡者不容易察覺;另一種是由較大砂礫產生的劃痕,深且周邊粗糙,處于中心區域則會影響視力。
抗磨損膜始于20世紀70年代初,當時認為玻璃鏡片不易磨制是因為其硬度高,而有機鏡片則太軟所以容易磨損。因此將石英材料于真空條件下鍍在有機鏡片表面,形成一層非常硬的抗磨損膜,但由于其熱脹系數與片基材料的不匹配,很容易脫膜和膜層脆裂,因此抗磨損效果不理想。基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由于濺射粒子帶有高能量,在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。
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