PVD鍍膜也叫“物理氣相沉積鍍膜”這種涂裝工藝應用范圍廣，局限性小，但真正了解它的人并不多。PVD鍍膜設備更是屈指可數，下面青島真空鍍膜設備廠家小編為大家詳細介紹一下，希望對大家有所幫助：

PVD三大分類：真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空揮發鍍膜。

PVD用于鍍膜的設備：一般稱為PVD真空鍍膜設備或PVD真空鍍膜機

PVD涂層原理：在真空環境中，選擇低壓、大電流電弧放電技術，使用揮發源加熱或使用電弧放電，離子轟擊使鍍材料積累在需要鍍的商品表面。

PVD可以鍍膜的薄膜層：它可以鍍各種單一的金屬薄膜層(金、銀、鋁、鋅、鈦等)，氧化物薄膜層（TiO等等)，滲碳體膜層（TiC，TiCN等等)，氮化物膜層（TiN，CrN，TiAiN等等，膜色調可以是純色，也可以是七色。薄膜層厚度為微米級，真空鍍膜層厚度較薄，鍍膜層幾乎不影響商品規格。

真空濺射涂料：

在放電過程中濺射技術的基礎上，濺射通常是在電弧放電的情況下產生的。濺射應使用含有高動能的顆粒或離子束對固體表面進行轟擊，以獲得靠近固體表面的原子的入射顆粒，將部分能量從固體中分離出來，進入真空并在商品上積累。

影響濺射效果的因素：1.目標；2.轟擊離子的質量；3.轟擊離子的能量；

真空離子涂層：

在揮發鍍和濺射鍍的前提下，離子鍍需要新的鍍膜技術，真空鍍和濺射鍍PVD在等離子體中進行鍍膜工藝，離子鍍能獲得膜層的優良特性，其膜層特性：

1.表面光潔度好，可嚴格控制堆積厚度；

2.薄膜附著力強，結合性高；

3.薄膜層厚度均勻，無邊界效應；

4.膜層密度高。

真空揮發鍍膜：

在真空室中，對揮發源薄膜原料進行加熱，然后產生原子或分子蒸汽流入商品表面固化產生固體膜。

優點：蒸發設備比較便宜，操作簡單，成膜速度快，鍍膜層純度高，質量好，能控制薄厚；

缺陷：膜層附著力低，工藝重復性不夠好，不易得到膜層的結晶結構。

對于這三種PVD就涂裝工藝而言，不同的商品需要選擇不同的工藝，配備專用設備。PVD鍍膜設備由真空腔、電源系統、控制系統、制冷系統、真空系統及零部件組成，價格各異。