真空涂層機(jī)造成不均勻的因素有哪些？其實(shí)專(zhuān)門(mén)從事這方面工作的朋友都比較了解，可以分為以下因素:真空狀態(tài)、磁場(chǎng)、氬氣。真空鍍膜加工的運(yùn)行是電子轟擊氬形成的氬離子，然后通過(guò)真空狀態(tài)下的正交磁場(chǎng)轟擊靶材，靶材離子沉積在工件表面形成薄膜。真空鍍膜加工狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)控制，每個(gè)抽氣口同時(shí)啟動(dòng)，強(qiáng)度一致，控制抽氣均勻性。如果抽氣不均勻，真空室內(nèi)的壓力不均勻，壓力對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)有一定的影響。此外，青島真空鍍膜加工還應(yīng)控制抽氣時(shí)間。太短會(huì)導(dǎo)致真空不足，但太長(zhǎng)會(huì)浪費(fèi)資源。然而，如果有真空計(jì)，控制它是沒(méi)有問(wèn)題的。

磁場(chǎng)正交運(yùn)行，但不可能將磁場(chǎng)強(qiáng)度達(dá)到均勻。一般青島真空鍍膜加工磁場(chǎng)強(qiáng)的地方，成膜厚度大，反之亦然，會(huì)導(dǎo)致膜厚不一致。然而，在生產(chǎn)過(guò)程中，由于磁場(chǎng)不均勻而導(dǎo)致的膜層不均勻并不常見(jiàn)。雖然原磁場(chǎng)強(qiáng)度不容易控制，但工件也同時(shí)運(yùn)行，目標(biāo)原子多次沉積結(jié)束涂層過(guò)程，雖然有些部分厚，有些部分薄，但在另一段時(shí)間內(nèi)，磁場(chǎng)強(qiáng)沉積在原薄部分厚，厚部分薄，所以多次，整個(gè)膜Z終成膜，均勻性相對(duì)較好。氬的送氣均勻性也會(huì)影響膜的均勻性，其原理實(shí)際上與真空度相似，因?yàn)闅宓倪M(jìn)入會(huì)改變真空室的壓力，均勻的壓力可以控制成真空涂層機(jī)膜厚度的均勻性。

真空鍍膜加工是將鋁金屬加熱熔化到真空狀態(tài)下的蒸騰。鋁原子凝結(jié)在聚合物材料的表面，形成極薄的鋁層。真空鍍鋁要求基材表面潤(rùn)滑、平整、厚度均勻；挺度和摩擦系數(shù)合適；外觀(guān)張力大于38dyn/cm2;熱性能好，能承受蒸騰源的熱輻射和冷凝熱效果；基材含水量低于0.1%。常用的鍍鋁基材有聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)等待薄膜。